1nm制程
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1nm制程是半导体制造的先进工艺节点,指晶体管栅极宽度约为1纳米的制造技术 。该尺寸接近硅基材料的物理极限,需采用碳纳米管、二硫化钼、铋电极等新材料及GAA、Forksheet等新晶体管架构实现突破 。
该技术处于研发阶段,全球主要厂商竞相布局。三星目标于2030年完成研发并计划采用叉片架构 ;台积电计划在2030年达到A10节点(即1nm) ;英特尔则聚焦14A等节点。制造需依赖ASML High-NA EUV光刻机 。其潜在应用包括移动SoC、AI、HPC和汽车芯片等领域。TrendForce预测,2032年全球1纳米代工市场规模有望突破80亿美元 。
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