SimonecpU的制作已经很精密了，是纳米级别的，那制作cpU的机器又是被什么样的机器做出来的？
的有关信息介绍如下：
CPU制作技术依赖于光刻机，基本原理是光通过一块选择性透光的光罩掩膜，使掩膜版下方的光刻胶表面选择性曝光，复制掩模版上的纳米级图案到CPU所在的硅片上。所以光刻核心部件就两个，光源和掩膜版，CPU的尺寸也由这两者决定。
首先的问题是光通过掩模版上的纳米级小孔时，因为孔的大小接近或小于光波长，会存在衍射问题，所以理论上光刻分辨率大概只能到光波长的一半，要想提高分辨率就得减小使用光的波长。目前IBM产的7nm芯片就用的是波长为13.5nm的极紫外光，由CO2激光产生。
另外就是掩模版上面纳米图案的制造，这是靠另一种技术，电子束刻蚀，通过聚焦一束高能量电子在光刻胶表面直接写图案，因为电子的衍射波长很小，分辨率可以小于10nm。
还有一点就是CPU结构中层与层之间的对齐，需要掩模版的移动精度在纳米级，目前的机械和压电控制可以满足要求。
参考文章：
